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IB-09060CIS™ 低温冷冻离子切片仪
制样设备
易受热损伤的样品,也能方便地制作出薄膜样品和截面样品。冷却保持时间长,有效地抑制了热损伤。
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产品特性
规格参数
应用案例
带有样品冷却系统,对容易受热损伤的样品也可以进行截面制备的离子切片仪。
①通过液氮制冷,减轻了离子照射时对样品造成的热损伤。
②可以用于制备TEM的薄膜样品和SEM的截面样品*
③冷却保持时间长,大大减少了热损伤。
④在装有液氮的情况下,也可以交换样品。
*最大样品尺寸:2.8mm(长度)×1.0 mm(宽度)×0.1mm(厚度)。
设备型号
WD-VPS431
灌胶方式
静态阀/动态阀/螺杆阀/柱塞阀(可选配)
三轴模块
X=400*Y=300*Z=100mm(可定制)
备料系统
料罐10L/20L/45L/60L/80L/100L(可选配)
真空压力
2mbar
真空系统
抽吸流量100-200m3/h
操作系统
PLC/HMI
产品系列
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