最新高精密JBX-8100FS圆形电子束光刻系统，通过全方位的设计优化，实现更简便的操作，更快的刻写速度，更小的占地面积和安装空间，并且更加绿色节能。
◇ 节省空间
标准的设备占地面积为4.9m（W）×3.7m（D）×2.6m（H），比以往机型占用空间更小，外形更加紧凑美观。
◇ 低功耗
正常工作时的功耗约为3kVA，仅需以往机型耗电量的1/3。
◇ 高产能
具备高分辨率和高速两种刻写模式，非常适用于超微细加工以及批量生产。该设备减少了刻写过程中的无谓耗时，并将扫描频率提升至业界最高最水准的125MHz (以往机型的1.25～2.5倍)，使其具备更高的生产能力。
◇ 机型
JBX-8100FS系列设有G1（基本版）和G2（全配版）两种机型。G1机型装机后也可进行升级，使其支持更高的应用需求。
◇ 新功能
安装光学显微镜（选配）后，在避免光刻胶感光的的同时可对材料上的图形进行确认。设备还配备了信号塔（标配），实现了视觉范围内的系统运行状况监控。
◇ 激光定位分辨率
采用分辨率为0.6nm的激光干涉仪，对样品台位置进行高精度的量测控制。
◇ 系统控制
配备了Linux®系统，图形用户界面使操作更加简单，便于初学者使用。数据准备程序支持Linux®和Windows®
备注：
Linux® 为Linus Torval在日本及其它国家的注册商标或商标。
Windows为美国微软公司在美国及其它国家的注册商标或商标。
| 机型 | G1 (基本版) | G2 (全配版) |
| 描画方式 | 圆形束斑, 矢量扫描, 步进重复移动方式 | ← |
| 加速电压 | 100kV | 100kV/50kV |
| 电流 | 5×10-12 ～ 2×10-7A | ← |
| 写场尺寸 | 最大1,000μm×1,000μm | 最大2,000μm×2,000μm |
| 扫描频率 | 最大125MHz | ← |
| 样品台移动范围 | 190mm×170mm | ← |
| 套刻精度 | ≦±9nm | ← |
| 场拼接精度 | ≦±9nm | ← |
| 正常工作时的功耗 | 3kVA | ← |
| 样品尺寸 | 最大200mmΦ的晶圆片, 6英寸的掩模版及任意尺寸的的微小样品。 | ← |
| 材料传送 | （1张）自动装载系统 | （12张）自动装载系统 |
| 主要选配件 | 光学显微镜，25kV加速电压，数据准备程序的追加授权 | |
