JBX-6300FS的电子光学系统在100kV的加速电压下能自动调整直径为（计算值）2.1nm的电子束，简便地描画出线宽在8nm以下（实际可达5nm）的图形。
此外，该光刻系统还实现了9nm以下的场拼接精度和套刻精度，性能比优越。
利用最细电子束束斑（实测值直径≦2.9nm）可以描画8nm以下(实际可达5nm)极为精细的图形。本公司独特的DF/DS系统能对电子束偏转产生的畸变进行校正，具有球差和象散自动补偿功能，可在场边角、场边界处进行高精度地描画。
该系统采用了19位DAC和样品台控制精度为0.6nm的激光干渉仪，实现了业界最高水准的位置精度、拼接、套刻精度（±9nm）。 可用于位置精度要求很高的光子器件、通信设备等领域的研究和开发。
自动补偿可以根据时间（任意的）、场和图形进行分别设定，非常适合于周末及休假等无人值守等情况下的长时间描画。
最大扫描速度高达50MHz，再加上最大程度地抑制了机器的准备操作时间，因此缩短了描画时间，到描画开始为止的作业非常简单，聚焦也能够自动进行，因而能提高总产出量。
使用自动装载系统（选配），最多可以连续描画10个样品架。（例：可连续描画10张6英寸的晶圆片或者40张2英寸的晶圆片等。※连续描画时，需要和材料数相应的样品架。）目前在日本国内外已有这样的生产线。
利用微间距控制程序（场尺寸精调程序），可以制作DFB激光器等的啁啾光栅。
| 电子枪 | ZrO/W 肖特基型 |
| 描画方式 | 描画方式 |
| 加速电压 | 25kV (选配), 50kV, 100kV |
| 样品尺寸 | 最大200mmΦ的晶圆片, 最大 5英寸或 6英寸的掩模版, 任意尺寸的的微小样品。 |
| 样品尺寸 | 2000μmＸ2000μm |
| 样品台移动范围 | 190mmX170mm |
| 套刻精度 | ≦±9nm |
| 场拼接精度 | ≦±9nm |
| 扫描速度 | 最大 50MHz |
