JBX-9500FS是一款100kV圆形束电子束光刻系统，兼具世界最高水平的产出量和定位精度，最大能容纳300mmφ的晶圆片和6英寸的掩模版，适合纳米压印、光子器件、通信设备等多个领域的研发及生产。
此外，由于具有100MHz的最快扫描速度，场尺寸在1000µm×1000µm时的套刻精度达到±11nm、场拼接精度为±10nm、写场内位置精度达±9nm，是兼具世界最高水准产出率和位置精度的100kV圆形束光刻系统。
由于采用的位置偏转DAC为20位，扫描DAC为14位，能获得0.25nm的扫描步距，分辨率更高，描画数据增长1nm，可以更忠实地再现描画数据。
最快达到100ＭＨｚ的高速化扫描速度，保证了大电流描画时的扫描步距很短，因而能提高对精度要求极高的图形描画的产出量。
由激光束控制（LBC）的0.15nm（λ/4096）的最小定位单位及高分辨率，达到了世界最高水准的位置精度。
本公司独自的自动校正功能(自动补偿功能)，实现了可信赖的长时间稳定地描画。自动补偿可以根据时间（任意的）、场和图形进行分别设定，非常适合于周末及休假等无人值守等情况下的长时间描画。
该系统最大能容纳300mmφ的晶圆片和6英寸的光掩模版，适合于纳米压印、光子器件、通信设备等各种领域的研发及生产。采用材料卡匣传送系统（选配），最多可装载10个卡匣。
利用微间距控制程序（场尺寸微调程序）可以制作DFB激光器等的啁啾光栅。
| 电子枪 | ZrO/W 肖特基型 |
| 描画方式 | 圆形束, 矢量扫描, 步进重复式 |
| 加速电压 | 100kV |
| 样品尺寸 | 样品尺寸 (可以安装): 最大300mmΦ的晶圆片, 最大6英寸的掩模版, 任意尺寸的的微小样品。 |
| 最大场尺寸 | 1000μm×1000μm |
| 样品台移动范围 | 260mmX240mm |
| 样品台控制单元 | 0.15nm（λ/4096） |
| 套刻精度 | ≦±11nm |
| 场拼接精度 | ≦±10nm （场尺寸为1000μm×1000μm） |
| 写场内位置精度 | ≦±9nm（场尺寸为1000μm×1000μm） |
| 定位DAC | 20位 |
| 扫描速度 | 最大 100MHz |
