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JIB-4700F 双束加工观察系统
随着先进材料构造的微细化和制造过程的复杂化，形貌观察、元素分析和晶体分析等的评估技术也对分辨率和精度有了更高的要求。为了满足这些需求，JEOL推出新一代双束加工观察系统JIB-4700F。 该设备的SEM镜筒中采用了超级混合圆锥形物镜、GB模式和in-lens检测器系统，在1kV低加速电压下,实现了1.6nm的保证分辨率,与最大能获得300nA探针电流的浸没式肖特基电子枪组合，可以进行高分辨率观察和高速分析。
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JIB-4000PLUS 聚焦离子束加工观察系统
JIB-4000PLUS 聚焦离子束加工观察系统配置了高性能的离子镜筒(单束FIB装置)。 被加速的镓离子束经聚焦照射样品后，能对样品表面进行SIM观察 、研磨、及碳和钨等沉积。还可以为TEM制备薄膜样品，为观察样品内部制备截面样品。 该设备能配置3D观察功能、自动TEM样品制备功能，能对应多种制样需求。
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JXA-8530F Plus 场发射电子探针显微分析仪
2003年日本电子推出了世界首台商业化场发射电子探针（FE-EPMA），此后被广泛地应用于金属、材料、地质等各个领域，并获得了极高的赞誉。最新研发的第三代场发射电子探针JXA-8530F Plus，电子光学系统有了很大的改进，新的软件能提供更高的通量，并保持着极高的稳定性，能实现更广泛的EPMA应用。
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JXA-8230 电子探针显微分析仪
可以安装通用性强、使用方便的能谱仪X射线探测器，组合使用WDS和EDS，能提供无缝、舒适的分析环境。
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软X射线分析谱仪
软X射线分析谱仪(SXES :Soft X-Ray Emission Spectrometer)通过组合新开发的衍射光栅和高灵敏度Ｘ射线CCD相机，实现了极高的能量分辨率。和EDS一样可以并行检测，并且能以0.3eV(费米边处Al-L基准)的极高能量分辨率进行分析，超过了WDS的能量分辨率。
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JXA-iHP200F 场发射电子探针显微分析仪
JXA-iHP200F在保持高局部微量元素分析性能的同时，追求每个人都能简单快速地使用好仪器。该仪器能更加有效地进行观察分析和操作，是更先进的一体化集成FE-EPMA。
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JXA-iSP100 电子探针显微分析仪
JXA-iSP100在保持高局部微量元素分析性能的同时，追求每个人都能简单快速地使用好仪器。该仪器能更加有效地进行观察分析和操作，是更先进的一体化EPMA。
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IB-19520CCP　截面样品制备装置
IB-19520CCP在加工过程中利用液氮冷却，能减轻离子束对样品造成的热损伤。冷却持续时间长、液氮消耗少的构造设计。在装有液氮的情况下，也能将样品快速冷却、恢复到室温，并且可以拆卸。配有传送机构，在隔离空气的环境下能完成从加工到观察的全过程。
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IB-19530CP　截面样品制备装置
为了满足市场多样化的需求，IB-19530CP截面抛光仪采用多用途样品台，通过交换各种功能性样品座实现了功能的多样化。
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