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BS-60211DEM/BS-60210DEM　电子枪
本电子枪可适用于低温蒸镀金属。 最适合用于脱膜过程时进行电极膜的真空蒸镀。 可以在抑制反射电子以及热辐射的同时完成高速率蒸镀。 而且为了防止坩埚之间的交叉污染做了特别的设计。
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BS-60250DEM 电子枪
高速率金属厚膜电子束蒸镀用电子枪，标配长寿命灯丝，在φ50 mm范围内实现500 Hz以上高速扫描的同时还可以达到最大16kW的输出，并且在构造上取消了电子枪上方的部件从而减少了蒸气附着，使得日常维护负担大幅减轻。
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BS-60310BDS Bombardment Deposition Source
使用电子束照射填充了蒸镀材料的坩埚背面，通过电子轰击来达到加热坩埚的目的。 蒸镀材料没有受到电子束的直接照射，此种间接加热方式，相较于电阻式加热可以更加稳定的完成蒸镀。
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BS-60610BDS Bombardment Deposition Source
此设备为利用电子束轰击间接加热法的蒸镀源。与旧型号(BS-60310)相比增加了电子束扫描功能，并通过扫描功能实现了高速率，厚膜蒸镀，适配大型装置等特点。
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BS-72010ICE/BS-72020ICE/BS-72050ICE 电子枪电源
这是一款拥有更高性能，操作更便捷的电子枪电源。
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反射电子捕集器
电子束蒸镀过程中，照射到蒸镀材料的电子束的一部分成为反射电子（后方散乱电子）被放射出来，到达基板后会对基板造成伤害，并且与基板温度上升和膜的附着性降低有一定的关联。反射电子捕集器是一款与电子枪组合以后可以有效减少反射至基板的反射电子量的设备，也可以用于对既有蒸镀设备的后期改装。
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JBX-6300FS 电子束光刻系统
JBX-6300FS的电子光学系统在100kV的加速电压下能自动调整直径为（计算值）2.1nm的电子束，简便地描画出线宽在8nm以下（实际可达5nm）的图形。此外，该光刻系统还实现了9nm以下的场拼接精度和套刻精度，性能比优越。利用最细电子束束斑（实测值直径≦2.9nm）可以描画8nm以下(实际可达5nm)极为精细的图形。
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JBX-9500FS　电子束光刻系统
JBX-9500FS是一款100kV圆形束电子束光刻系统，兼具世界最高水平的产出量和定位精度，最大能容纳300mmφ的晶圆片和6英寸的掩模版，适合纳米压印、光子器件、通信设备等多个领域的研发及生产。
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JBX-3200MV　电子束光刻系统
JBX-3200MV是用于制作28nm～22/20nm节点的掩模版/中间掩模版（mask/reticle）的可变矩形电子束光刻系统。最先进的技术实现了高速、高精度和高可靠性。是基于加速电压50 kV的可变矩形电子束和步进重复式的光刻系统?
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